集成电路制造中超纯水的制备过程

在大规模集成电路制造中，在进行微米级的微细加工时，必须绝对避免同会使半导体性能变坏的杂质接触，还要防止杂质进入气路导管，因此每个阶段用于冲洗的水要经过超纯水机严格提纯制备。在生产大规模集成电路时要求的超纯水无法从自然获得，必须通过超纯水机或其他方式进行制备。

超纯水的精炼分为一次纯水处理和二次纯水处理。一般来说，通过超纯水机将向各车间供应的纯水集中处理是一次纯水处理，各车间各自进行的处理是二次纯水处理。

集成电路制造中一次超纯水处理

经过超纯水机提纯的一次纯水处理的水源有城市自来水、工业用水、河流的水、地下水、井水等，应根据水源和水的性质进行相应过滤等前处理，然后用渗透膜和离子交换膜去除微细的悬浮液为例子和溶解于其中的物质，以得到集成电路制作中所需要的水质。经过超纯水机制备的一次纯水已经很干净，但是非常容易溶解其他物质，因此在贮存和运输过程中，一定要小心使其不被重新污染。

集成电路制造中二次超纯水处理

为了保证水质完全符合要求，在使用现场还要再次进行精炼，即进行超纯水机二次纯水处理。二次纯水处理设备就安装在制造半导体器件的超净房间里，或放在它的附近。二次纯水处理所需要的超纯水机中包括有紫外线杀菌装置，非再生型盒式离子交换装置、微过滤器和超级过滤的薄膜过滤器等，经过这样一系列的严格制备所得到的超纯水，能够符合集成电路制造生产中对水的需求。